JRP经过十多年的摸索和实践,在玻璃真空镀膜系统设计、制造、工艺、技术服务积累了雄厚的真空技术实力,并且已成为玻璃真空镀膜整套工程总承建商和设备供应商。JRP坚持以高品质为基础,通过不懈努力,积累了丰富的设计和建造经验,并和众多客户建立了长期稳固的合作关系。JRP以其专业的设计、强大的制造能力、严格的质量控制,为客户提供优良的产品质量以及良好的售后服务,赢得广大客户的信任。
JRP提供在线立式,在线卧式等设备,用于生产热反射膜玻璃,低辐射(low-E)膜玻璃,ITO、AZO、FTO导电玻璃,自洁净玻璃,二向色镀膜玻璃,抗反射膜玻璃等。
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该生产线是利用磁控溅射镀膜技术在玻璃上沉积含导电层的多层纳米复合薄膜。
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基片尺寸:1400mm×1100mm×3.2mm
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加热温度:≤350℃PID控温
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AZO膜层厚度:800-1000nm
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采用分段供气(5段、7段、11段等),提高真空膜层均匀性
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气体隔离狭缝创新设计,互换等隔仓设计,可随意调整泵位、气体隔离位和靶位
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具有多种控制和操作方式,界面人性化
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可完成AZO、ITO、导电玻璃镀膜
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应用于光伏行业,ITO行业,家电玻璃行业及飞机、舰船玻璃等。
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该设备为卧式磁控溅射镀膜生产线,可连续镀金属单质膜、氧化物膜,也可根据要求实现单层膜和多层膜的连续生产。
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基片尺寸:1650mmX707mmX2片
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控制模式: PC+PLC
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工件尺寸可根据用户要求设计制作
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JRP生产的镀膜生产线主要有以下特点:
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用真空大面积磁控溅射技术,沉积效率高,膜层质量高,可重复性好
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采用分段式供气,提高真空膜层均匀性
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采用分区多点控温模式,有效保证基片温度均匀性,从而减少碎片几率,大幅提高产品质量
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采用隔气单元,对不同工艺段进行有效气氛隔离
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电气控制系统:PLC+PC自动控制结构,具有多种控制和操作方式,界面人性化。提供实时动态监测,对设备运行异常数据及故障进行报警提示,并进行相应记录
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可根据客户的要求设计生产
产品关键词:常温常压等离子、常温常压等离子设备、等离子清洗、等离子除尘、等离子刻蚀、等离子接枝、等离子沉积、等离子改性、等离子活化;真空等离子清洗、真空等离子除尘、真空等离子刻蚀、真空等离子接枝、真空等离子沉积、真空等离子改性、真空等离子活化;plasma、plasma clear、plasma treatment system、plasma treatment、plasma system。